Obiettivi di sputtering al niobio

Il metallo del gruppo 5 della tavola periodica, il niobio, è un metallo lucido, grigio, duttile, paramagnetico (vedi tabella), con un'insolita configurazione di elettroni nei suoi gusci più esterni. (Questo è visto in prossimità di palladio (45), rodio (45) e rutenio (44) (46). Da T=0 K al suo punto di fusione, si ritiene che abbia un corpo cubico centrato struttura cristallina L'espansione termica lungo i tre assi cristallografici è stata misurata con alta risoluzione e i risultati mostrano anisotropie che non sono coerenti con una struttura cubica, pertanto sono previsti ulteriori studi in quest'area.

Dettagli sugli obiettivi di sputtering del niobio
Purezza: 99,95%;

Circolare: diametro: 16 pollici; Blocco: Lunghezza: 32 pollici; Larghezza: 12 pollici; Spessore: 1 mm;

Tipo di bersagli: bersaglio per sputtering planare, bersaglio per sputtering rotante.

Gli usi per gli obiettivi di sputtering al niobio includono: vetro architettonico, fibre ottiche, pellicole ottiche e rivestimenti antiusura.
Caratteristiche: Buona purezza; grani raffinati (granulometria media intorno ai 40 um)

Metodo di produzione

1. Raffinazione
Molte fasi della fusione con fascio di elettroni sono seguite da laminazione e ricottura, pulizia e imballaggio finale.
protezione contro le tossine ambientali
salvaguardia durante la spedizione
2.Opzioni
Servizio di incollaggio di bersagli sputtering; purezza minima del 99,95%; dimensioni più piccole offerte anche per applicazioni di ricerca e sviluppo

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Gli obiettivi di sputtering al niobio di alta qualità con la massima densità sono una specialità di Yusheng Metal. Per l'utilizzo in semiconduttori, deposizione chimica da vapore (CVD), deposizione fisica da vapore (PVD), visualizzazione e applicazioni ottiche, sono disponibili target di sputtering al niobio (Nb) con la massima purezza (99,999 percento) e dimensioni medie dei grani più piccole. Con dimensioni del target planare e configurazioni fino a 820 mm, i nostri target di sputtering standard del settore per film sottile sono disponibili come prodotti monoblocco o incollati. Sono dotati di posizioni dei fori, filettatura, smussatura, scanalature e supporto progettati per funzionare sia con dispositivi di sputtering tradizionali che con apparecchiature di processo all'avanguardia, come rivestimenti di grandi dimensioni per l'energia solare o celle a combustibile e applicazioni flip-chip. Inoltre, dimensioni e metalli personalizzati vengono realizzati insieme a obiettivi di dimensioni di ricerca. Le metodologie più efficaci, come la fluorescenza a raggi X (XRF), la spettrometria di massa a scarica di bagliore (GDMS) e il plasma accoppiato induttivamente, vengono utilizzate per valutare tutti gli obiettivi ( PCI). Lo "sputtering" è la rimozione controllata e la conversione del materiale bersaglio in una fase gassosa/plasmatica diretta attraverso il bombardamento ionico. Oltre a bersagli di quasi tutte le dimensioni rettangolari, circolari o ovali, possiamo anche offrire bersagli al di fuori di questo intervallo.

La cristallizzazione, lo stato solido e altre procedure di purificazione ultra elevata come la sublimazione vengono utilizzate per produrre materiali. American Elements è specializzata nella creazione di composizioni uniche per uso commerciale, accademico e tecnologia innovativa ed esclusiva. Yusheng Metal è specializzata nella creazione di composizioni uniche per usi industriali, accademici e proprietari.Inoltre, Yusheng Metal può fondere qualsiasi metallo delle terre rare e la maggior parte degli altri materiali all'avanguardia in forma di barra, barra o piastra, nonché in varie forme lavorate e utilizzando altre tecniche come nanoparticelle, soluzioni e organometallici. Oltre a produrre barre, dischi, granuli, lingotti, pellet e punte, produciamo anche niobio. Su richiesta sono disponibili forme aggiuntive.

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