Obiettivi di Tantalum spediti in Corea del Sud

HAFNIUM Target Shape: target piatto, personalizzazione di forma speciale
Purezza target di Hafnium: 3n5
Dimensione target di Hafnium: elaborato in base a disegni o personalizzati da altri
Possiamo anche fornire filo di hafnium, lamiera di hafnium, granuli di hafnium, aste di hafnium, polvere di hafnium, ecc.

Preparazione del processo di preparazione del bersaglio di hafnio di metallo afnio: il metallo di hafnio è la materia prima del bersaglio di hafnium, che deve essere preparata riducendo il tetracloruro di hafnium o il fluoruro di hafnio. Elaborazione del metallo hafnium: il metallo di hafnium viene elaborato nella forma e nelle dimensioni richieste, di solito mediante forgiatura, allungamento, taglio e altri metodi di elaborazione. Pulizia del bersaglio di Hafnium: pulire le impurità e gli ossidi sulla superficie del bersaglio di Hafnium per garantire la purezza del materiale. Elaborazione e test degli obiettivi di hafnium: sciogliere le barre di hafnium cristallizzate in lingotti, elaborare i lingotti in bersagli della forma e delle dimensioni richiesti, quindi testare rigorosamente la purezza e la dimensione del grano per garantire che la qualità degli obiettivi di Hafnium soddisfi i requisiti. Quanto sopra sono i passaggi principali nella preparazione degli obiettivi di Hafnium. I processi di preparazione di diversi produttori possono variare, ma in generale si basano sui passaggi di cui sopra.

Nome prodotto: Target Tantalum
Marchio: TA1 TA2
Purività: maggiore o uguale al 99,95% 99,99%
Densità: 16.66G/cm3
Applicazione: gli obiettivi di sputtering tantalum sono fogli di tantalum ottenuti mediante elaborazione della pressione, con elevata purezza chimica, dimensioni ridotte, buona ricristallizzazione
Organizzazione e coerenza nei tre assi, utilizzati principalmente nella deposizione sputtering di fibre ottiche, wafer a semiconduttore e circuiti integrati
Rivestimento, bersagli tantalum possono essere utilizzati per rivestimenti di sputtering catodico, materiali attivi ad alto aspirapolvere, ecc. È un materiale importante per la tecnologia a film sottile.