Credo che tutti abbiano una certa conoscenza degli obiettivi del rivestimento. Passa attraverso il sistema di rivestimenti. Gli obiettivi di rivestimento duro sono ora qualcosa che comprendiamo. La fase finale è riassunta per tutti dalla redazione.
La progettazione della composizione del target, la trasformazione della struttura cristallina del target, la preparazione del target, il miglioramento del processo e l'ottimizzazione del comportamento dello sputtering del target sono le attuali quattro aree chiave di interesse per la ricerca sui target di rivestimento per rivestimenti duri. Oggi ci concentreremo sull'ottimizzazione del comportamento dello sputtering del target, la fase finale del processo di rivestimento duro.
L'impiego del target nel processo di rivestimento dovrebbe essere l'unico obiettivo della ricerca del target. Il target si trova nella camera a vuoto durante tutto il processo di preparazione del rivestimento con uno stato di plasma molto complesso, che provoca l'erosione del metallo del target. Il plasma ha un impatto sulla traiettoria dell'atomo. Per mantenere il bersaglio in uno stato stabile e buono durante la costruzione, è fondamentale ottimizzare il processo di rivestimento. Il tasso di erosione del bersaglio e la perdita di atomi sputtering durante il viaggio dell'atomo sputtering al substrato durante il processo di rivestimento con magnetron sputtering del target in lega.
La densità di corrente ionica e il bersaglio di brillamento hanno i maggiori effetti sulla resa dello sputtering del bersaglio. La perdita angolare e la perdita per diffusione sono i due tipi principali di energia ionica, la perdita di atomi sputtering. La densità e l'energia delle particelle che attaccano il bersaglio possono essere modificate alterando la corrente del bersaglio. L'avvelenamento del bersaglio può essere reso più efficace regolando la pressione parziale dell'azoto. La velocità con cui gli atomi metallici si spostano sul substrato può essere controllata in modo efficiente regolando la polarizzazione del substrato. Per preparare un rivestimento di qualità superiore, il materiale target può essere realizzato per adattarsi meglio all'ambiente della camera a vuoto del rivestimento regolando i parametri del processo.
Potremmo trarre vantaggio dal fatto che la rapida crescita del settore elettronico ha innescato progressi significativi in una serie di attività adiacenti. Il progresso della scienza e della tecnologia è guidato dai tempi. Gli obiettivi con rivestimento duro sono uno dei principali vincitori, insieme a noi.
